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CVD系統O1200-XITD3F

發布時間:2017-11-16  瀏覽次數:5329

設備簡介:

化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業中應用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環??茖W等領域。



             


 

 

 



配置詳情

系統描述

產品型號

NBD-O1200-XIT(爐管直徑50、60、80、100mm可選)

工作溫度

≤1150℃

加熱區尺寸

440mm

升溫速率

≤20℃/s

電氣規格

AC 220V  4KW

氣體系統(可選購)

流量計類型

浮子流量計

質量流量計

管道示意圖

 

 

進氣接口數量

2、3、4(多路可選)

流量范圍

20-250/20-800ml/min(多量程可選)

50/100/200sccm(多量程可選)

工作壓差范圍

0-0.15MPa

低真空系統(可選購)

真空泵型號

NBD-1.5C

NBD-3C

NBD-4C

抽氣速率

1L/s

3L/s

4L/s

進排氣口尺寸

Φ8mm寶塔接頭

Φ8mm寶塔接頭

KF16/25

極限壓力

1000Pa

100Pa

10Pa

工作溫度

5-40℃

電氣規格

AC220V

高真空系統(可選購)

真空泵型號

NBD-103(A)

NBD-103(B)

NBD-103(C)

抽氣速率

110L/s

600L/s

700L/s

真空測量計

復合真空計

極限壓力

10^-3Pa

10^-4Pa

10^-5Pa

工作溫度

5-40℃

電氣規格

AC 220V

AC 220V

AC 380V

* 支持非標定做,更多型號,歡迎來電垂詢400-000-3746


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